ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÇÐ
Á¤°¡ : 22,000 ¿ø
ÀÛ°¡¸í : Jiun-haw Lee.David N. Liu.Shin-Tson Wu ÁöÀ½, ±èÁ¾·Ä.±èÁø°ï
ÃâÆÇ»ç : CIR(¾¾¾ÆÀ̾Ë)
Ãâ°£ÀÏ : 2016-09-18
ISBN : 9791156102489 / K602535516
±¸¸Åó
Ã¥ ¼Ò°³
ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÇÐ
±¦Âú´Ù°í ¸»ÇÏÁö¸¸ ±¦ÂúÁö ¾ÊÀº ³Ê¿Í ³ª, ¿ì¸®°¡ ¾È°í »ç´Â ¿ì¿ï. ±×¸®°í ±× °¨Á¤ÀÌ °¡Á®¿Â ¸¶À½ÀÇ º´ ¿ì¿ïÁõ. ÈÁ¦ÀÇ Ã¤³Î
ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ±â¼úÀÇ ±âº»ÀûÀÎ ¹°¸®¸¦ ÃѸÁ¶óÇÑ ÀÔ¹®¼
ÀÌ Ã¥Àº ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ¿¡ »ç¿ëµÇ°í Àְųª »ç¿ëµÉ ÀáÀç·ÂÀÌ ÀÖ´Â ±â¼úµéÀÇ ÀÛµ¿ ¿ø¸®¿Í Á¦Á¶ ¹æ¹ý, ¾îµå·¹½Ì ¹æ¹ý, ½Ã½ºÅÛ Ãø¸é ¹× ±âÃÊ °úÇÐÀ» ´Ù·ç°í ÀÖ´Ù. ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ¿¡ °üÇÑ ÀϹÝÀûÀΠåµéÀº °ú°Å¿¡µµ Ãâ°£µÇ¾úÁö¸¸, ÀÌ Ã¥Àº ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ±â¼úÀÇ ±âº»ÀûÀÎ ¹°¸®¸¦ ÃѸÁ¶óÇÑ ÃÖÃÊÀÇ Æ÷°ýÀûÀÎ ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ±³ÀçÀÌ´Ù.
1Àå¿¡¼´Â µð½ºÇ÷¹ÀÌ ±â¼úÀÇ ºÐ·ù¿Í ±Ô°ÝÀ» ¼Ò°³ÇÑ´Ù.
2Àå¿¡¼´Â °úÇÐÀûÀÎ °üÁ¡¿¡¼ »ö Çü¼º ´Ü°è¸¦ ¼Ò°³ÇÏ¸é¼ »ö ¼º´ÉÀ» ¼³°èÇÏ´Â µ¥ ÇÊ¿äÇÑ ¹è°æ Áö½ÄÀ¸·Î »ö °úÇÐÀ» ¼³¸íÇÑ´Ù.
3ÀåÀº LCD¿Í OLEDÀÇ ±¸µ¿¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ¹ÝµµÃ¼ Àç·á ±â¹Ý TFT¿¡ ´ëÇØ ±â¼úÇÑ´Ù.
4ÀåÀº ±âº»ÀûÀÎ ¾×Á¤ ÈÇÕ¹° ±¸Á¶, È¥ÇÕ °ø½Ä ¹× ¹°¸®Àû ¼ºÁú·Î Ãâ¹ßÇØ¼ ¼ÒÀÚ ±¸Á¶ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ Æ¯¼ºÀ¸·Î ³íÀǸ¦ È®ÀåÇÑ´Ù.
5ÀåÀº PDP Çٽɿ¡ ´ëÇÑ °³°üÀ» Á¦½ÃÇÑ´Ù. °¡½º ¹æÀüÀÇ ¹°¸®Çп¡ ´ëÇÑ ³íÀÇ·Î ½ÃÀÛÇØ¼ °¡½º ¹æÀüÀÇ ¹ÝÀÀ°ú I-V Ư¼ºÀ» ´Ù·é´Ù.
6Àå¿¡¼´Â ¹ÝµµÃ¼ LED¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇÑ´Ù. ¹ß±¤ ÆÄÀåÀÌ Àç·á¿¡ µû¶ó °áÁ¤µÇ±â ¶§¹®¿¡ ¸ÕÀú Àç·á ½Ã½ºÅÛÀ» ´Ù·ç°í, LEDÀÇ Àü±âÀû ¼ºÁú, ƯÈ÷ p-n Á¢ÇÕ ¹× ±¤ Ư¼ºÀ» ³íÇÑ´Ù.
7Àå¿¡¼´Â Á¦Á¶ °øÁ¤Àº LCD, µ¿ÀÛ ¿ø¸®´Â LED¿Í À¯»çÇÑ OLED¸¦ ´Ù·é´Ù.
8Àå¿¡¼´Â Àü°è ¹æÃâÀÇ ¹°¸®ÇÐÀ» ³íÀÇÇÏ´Â °ÍÀ» ½ÃÀÛÀ¸·Î Àü°è Áõ° ¹× Áø°ø ±â±¸¸¦ ´Ù·ç¸ç FEDÀÇ Çٽɿ¡ ´ëÇØ °³°üÇÑ´Ù.
ÀÌ Ã¥Àº ÇÑ ±ÇÀÇ ºÐ·®À¸·Î ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ±â¼ú Àü ¹üÀ§¿¡ °ÉÃÄ »ê¾÷ü °øÇÐÀÚ¿Í °úÇÐÀÚ¸¦ ÈÆ·Ã½ÃŰ´Â µ¥ ¸Å¿ì °¡Ä¡ ÀÖ´Â ³»¿ëÀ» Á¦°øÇϱ⠶§¹®¿¡ ÀÌ Ã¥ÀÇ µ¶ÀÚÃþ°ú ¿ëµµ´Â ´ëÇпø °úÁ¤À» ³Ñ¾î Å©°Ô È®´ëµÉ °ÍÀÌ´Ù.
ÀúÀÚ ¼Ò°³
Shin-Tson Wu (ÁöÀºÀÌ)
-¼´ø ͏®Æ÷´Ï¾Æ ´ëÇб³ ¹°¸®ÇÐ PhD
-¼¾Æ®·² Ç÷θ®´Ù ´ëÇб³ ±¤ÀüÀÚ°øÇаú ±³¼ö(2001¡ÇöÀç)
Jiun-haw Lee (ÁöÀºÀÌ)
-±¹¸³ ŸÀÌ¿Ï ´ëÇÐ ÀüÀÚ°øÇÐ PhD
-±¹¸³ ŸÀÌ¿Ï ´ëÇÐ ÀüÀÚ°øÇаú ±³¼ö(2003¡ÇöÀç)
David N. Liu (ÁöÀºÀÌ)
-´ºÀúÁö °ø°ú´ëÇб³ ÀüÀÚ°øÇÐ PhD
-ŸÀÌ¿Ï »ê¾÷±â¼ú¿¬±¸¼Ò ÀÌ»ç(2006¡ÇöÀç)
±èÁ¾·Ä (¿Å±äÀÌ)
Çö) ¼¼Á¾´ëÇб³ ÀüÀÚÁ¤º¸Åë½Å°øÇаú
Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿ø ¹°¸®Çаú Á¹¾÷(ÀÌÇйڻç)
¼¿ï´ëÇб³ ´ëÇпø ¹°¸®Çаú Á¹¾÷(ÀÌÇм®»ç)
¼¿ï´ëÇб³ ÀÚ¿¬°úÇдëÇÐ ¹°¸®Çаú Á¹¾÷(ÀÌÇлç)
»ï¼ºÁ¾ÇÕ±â¼ú¿ø, »ï¼ºÀüÀÚ, ¼ö¼®¿¬±¸¿ø
±èÁø°ï (¿Å±äÀÌ)
-¼¿ï´ëÇб³ ±Ý¼Ó°øÇаú Çлç
-Çѱ¹°úÇбâ¼ú¿ø(KAIST) Àç·á°øÇаú ¼®»ç, ¹Ú»ç
-Çö ºÎ»ê´ëÇб³ ³ª³ë¸ÞīƮ·Î´Ð½º°øÇаú ±³¼ö
ÀÛ°¡ÀÇ ´Ù¸¥Ã¥
ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ °øÇÐ
22,000 ¿ø
CIR(¾¾¾ÆÀ̾Ë)
ÃâÆÇ»çÀÇ ´Ù¸¥Ã¥
°Ç¼³°ø»ç °ø±âÁö¿¬ Ŭ·¹ÀÓ°ú ºÐÀï - ÀÔÁõ¹æ¹ý°ú Æò°¡¹æ¹ýÀ» Áß½ÉÀ¸·Î
42,000 ¿ø
¾¾¾ÆÀ̾Ë
¿þÀÌÆÛ ¼¼Á¤±â¼ú Wafer Cleaning Technology
52,000 ¿ø
CIR(¾¾¾ÆÀ̾Ë)



